光學鏡片用超純水設備流程及要求有哪些?
光電行業生產產品一般包含LED,觸摸屏等,生產這些產品過程中需要采用大量的純水,并且此類光電光學產品對水質要求比較高,光電工業超純水出水水質一般需要達到下述要求:電阻率:產水點>15兆歐以上: SiQ2:<10ppb;TOC:<50ppb; PH:6.5-8;硬度:<6dh;金屬陽離子:
純水等級滿足EW-2(GB/T114461-1997)。
光電行業超純水系統一般采用下述流程:
1、原水箱一原水泵一砂過濾器-碳過濾器一軟水器一精密過濾器- -反滲透設備一混床一純水箱一純水泵一精密過濾器--用水點
2、原水箱一原水泵一砂過濾器一碳過濾器一軟水器一精密過濾器- -反滲透設備-EDI一純水箱一純水泵一精密過濾器一用水點
根據用水水質要求,電子光電行業超純水處理系統一般采用反滲透+EDI工藝的較多,這種工藝既環保又經濟,出水水質均能達到15兆歐以上,達到了光電行業的標準水質,且不需酸堿再生就可連續制取高純水。水質可通過增減配套工藝設備進行調整。




