我們知道，在電子設(shè)備的加工過程中，由于手指的觸摸，指紋會向下動，而電子設(shè)備等產(chǎn)品的質(zhì)量將直接受到加工過程中留下的指紋或粘在表面的灰塵的影響。因此，在整個加工過程中需要進(jìn)行純水清洗，以確保產(chǎn)品質(zhì)量。用什么樣的純水設(shè)備來用于電子設(shè)備清洗的純水？

目前，市場上的純水設(shè)備分為：超純水設(shè)備、去離子水設(shè)備、純水設(shè)備、edi超純水、反滲透純水、除鹽水設(shè)備等。用于電子設(shè)備清洗的純水可由超純水設(shè)備制成。

超純水設(shè)備可根據(jù)用戶的用水需求定制水處理工藝。純水的水質(zhì)電阻率可以做到接近18.3MΩ*cm，但電子產(chǎn)品清洗對純水的要求可以小于18.3MΩ*cm。

該設(shè)備主要采用反滲透技術(shù)、蒸餾、去離子或其他水處理工藝。不同工藝生產(chǎn)的純水質(zhì)量不同。

君浩環(huán)保工程師可根據(jù)用戶用水需求定制純水設(shè)備工藝。

生產(chǎn)的純水要在一小時內(nèi)用完，不能存放太久。否則，水的電導(dǎo)率將下降。純水電阻率的下降與時間有關(guān)。設(shè)備的型號大小分為每小時0.25T和每小時數(shù)千噸。具體型號可查閱君浩環(huán)保純水設(shè)備型號表。