電子光學用超純水設備是什么原理
電子光學一般指電子試劑、半導體、集成電路芯片加工、硅片清洗、光學透鏡、微電子工業、液晶顯示屏等加工。產品設備加工過程中需要大量的工業純化水,如果工業純化水達不到標準,不僅會直接影響產品的使用,還會影響產品的壽命。現在讓我們了解一下電子光學用超純水設備?
不同電子行業對純水電阻率的要求不同,國內電子行業使用的純水分為四個等級:0.5MΩ/CM、12MΩ/CM、15MΩ/CM.和18MΩ/CM。
對于一些用于半導體、集成電路芯片、液晶屏清洗、電子試劑等的純水,如果要求純水的水質電阻率約為18.2兆歐,則超純水設備需要結合兩級反滲透純化水處理技術+EDI模塊系統。
該設備可根據工廠每小時使用的純水量、現場安裝和工藝設計進行定制。在施工方提供的相關技術資料和技術要求中,無需添加任何藥劑連續生產超純水,設備自動化程度高,操作方便,產水量穩定。




