單晶硅作為一種半導體材料，用于制造半導體設備、太陽能電池等。無論應用于哪個行業，都要對其進行加工和清洗。超純水設備是一種高電阻率、無雜質、無導電性的設備，可滿足單晶硅的清洗要求。

單晶硅清洗超純水設備采用雙反滲透和EDI拋光混床制水方式。設備由預處理系統、反滲透主機系統、離子交換混床（EDI電脫鹽系統）系統等組成。該設備有以下幾個優勢：

1.無需酸堿再生

在混床中，樹脂需要用化學酸和堿進行再生，而EDI消除了在床酸和堿再生過程中產生的廢酸和堿的處理和繁重工作，并保護了環境。

2.出水連續穩定，操作簡單

在混床中，由于每次再生和水質的變化，操作過程變得復雜，而EDI模塊的產水過程穩定連續，水質恒定，沒有復雜的操作程序，操作過程簡化。

3.模塊化設計

超純水處理設備采用積木式結構，可根據現場高度和模塊化設計靈活構造，使EDI在生產過程中易于維護。

4.不需要試劑和任何回收的化學品

不需要中和劑，因為EDI膜塊不會產生酸堿廢液。無需使用任何回收的化學品進行再生，這減少了化學品運輸問題，并降低了系統的運行成本。