在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，超純水可以應(yīng)用于晶圓沖洗，化學(xué)品稀釋?zhuān)瘜W(xué)機(jī)械研磨，潔凈室環(huán)境的加濕源等場(chǎng)合，超純水的品質(zhì)與半導(dǎo)體的良品率直接相關(guān)，隨著半導(dǎo)體元器件尺寸縮小與精細(xì)度上升，超純水水質(zhì)技術(shù)要求也在不斷上升。

在超純水生產(chǎn)過(guò)程中，只要微粒子、電阻率以及TOC以及氣泡中一個(gè)指標(biāo)出現(xiàn)略微差異，就會(huì)使半導(dǎo)體元器件生產(chǎn)的合格率下降，君浩環(huán)保超純水設(shè)備可以有效解決超純水清洗芯片中存在的問(wèn)題，更好的提升芯片的良品率。該設(shè)備可連續(xù)穩(wěn)定的生產(chǎn)高純度的超純水，無(wú)需樹(shù)脂再生而停機(jī)。